Ausschreibung

Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Zu diesem Verfahren liegt bereits ein Zuschlag vor. Die Frist unten steht so in der Bekanntmachung; vergeben ist der Auftrag trotzdem. Zum Ergebnis

13.07.2026, 23:59 Angebotsfrist · abgelaufen

484.874 € Schätzwert der Vergabestelle

1 Los

Beschreibung

Eine Atomic-Layer-Deposition (ALD)-Anlage zur Durchführung von Forschungsarbeiten

Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

Analyse ansehen

Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber: Technische Universität München
Ort: München
Bundesland: Bayern
CPV: 31712100 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Veröffentlicht: 09.06.2026
Angebotsfrist: 13.07.2026, 23:59
Kennung: 196028f0-89e5-49a4-b587-9a9c9c914a98
Quelle: oeffentlichevergabe.de (Bund)

Lose

Los 1 — Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Einordnung

Technische Universität München im Bestand

218 Ausschreibungen (davon 141 Ergebnisse)

3,1 Ø Bieterzahl (81 Ergebnisse)

492.000 € Median Zuschlagswert (79 Zuschläge)

30,4 Tage Ø Tage bis zur Frist (76 Ausschreibungen)

Auftraggeberprofil: alle Verfahren und Kennzahlen

Quelle: veröffentlichte Bekanntmachungen dieses Auftraggebers aus den angebundenen Vergabeportalen, Stand 10.10.2026.

Vergleichbare Verfahren: Elektrische Maschinen und Geräte in Bayern

146 Zuschläge vom 01.11.2024 bis 10.10.2026

2,0 Median Bieterzahl (109 Zuschläge mit Angabe)

383.957 € Median Zuschlagswert (52 Zuschläge mit Wert)

67 Tage Median von Bekanntmachung bis Zuschlag (89 Verfahren)

Quelle: veröffentlichte Zuschlagsbekanntmachungen derselben CPV-Abteilung (31) im Bestand von Zuschlagsreif; Werte, die ein Portal nicht veröffentlicht, fehlen in der jeweiligen Zahl. Stand der Auswertung: 10.10.2026. Alle Zuschläge

Verlauf des Verfahrens

Ausschreibung 09.06.2026
Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
Ausschreibung 11.06.2026
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
Ergebnis der Vergabe 26.08.2026
Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
Ergebnis der Vergabe 27.08.2026
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Zum Vergabeportal

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 25.09.2026, 06:40.