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Ergebnis der Vergabe

Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

2 Bieter
1 Los

Beschreibung

Eine Atomic-Layer-Deposition (ALD)-Anlage zur Durchführung von Forschungsarbeiten

Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

Analyse ansehen

Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber
Technische Universität München
Ort
München
Bundesland
Bayern
CPV
31712100 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte
Verfahrensart
Offenes Verfahren
Veröffentlicht
27.08.2026
Zuschlag am
11.08.2026
Kennung
196028f0-89e5-49a4-b587-9a9c9c914a98
Quelle
TED (EU-Amtsblatt)

Lose

Zuschlag

Einordnung

Technische Universität München im Bestand

218 Ausschreibungen (davon 141 Ergebnisse)
3,1 Ø Bieterzahl (81 Ergebnisse)
492.000 € Median Zuschlagswert (79 Zuschläge)
30,4 Tage Ø Tage bis zur Frist (76 Ausschreibungen)

Auftraggeberprofil: alle Verfahren und Kennzahlen

Quelle: veröffentlichte Bekanntmachungen dieses Auftraggebers aus den angebundenen Vergabeportalen, Stand 10.10.2026.

Vergleichbare Verfahren: Elektrische Maschinen und Geräte in Bayern

146 Zuschläge vom 01.11.2024 bis 10.10.2026
2,0 Median Bieterzahl (109 Zuschläge mit Angabe)
383.957 € Median Zuschlagswert (52 Zuschläge mit Wert)
67 Tage Median von Bekanntmachung bis Zuschlag (89 Verfahren)

Quelle: veröffentlichte Zuschlagsbekanntmachungen derselben CPV-Abteilung (31) im Bestand von Zuschlagsreif; Werte, die ein Portal nicht veröffentlicht, fehlen in der jeweiligen Zahl. Stand der Auswertung: 10.10.2026. Alle Zuschläge

Verlauf des Verfahrens

Zum Vergabeportal

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 18:34.