Ergebnis der Vergabe
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme – Chemisch-Mechanisches Poliersystem (CMP) - PR361041 - 2480 - W
Beschreibung
PR361041 - 2480 - W Chemisch-Mechanisches Poliersystem (CMP)
Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Analyse ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Auftraggeber
- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
- Ort
- München
- Bundesland
- Sachsen
- CPV
- 31712000 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme
- Verfahrensart
- Verhandlungsverfahren mit vorheriger Veröffentlichung eines Aufrufs zum Wettbewerb/Verhandlungsverfahren
- Veröffentlicht
- 17.01.2024
- Kennung
- ec46041f-7b1b-4240-a2f4-c0481f7ef9b2
- Quelle
- TED (EU-Amtsblatt)
Lose
- Los 0
Einordnung
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 im Bestand
Auftraggeberprofil: alle Verfahren und Kennzahlen
Quelle: veröffentlichte Bekanntmachungen dieses Auftraggebers aus den angebundenen Vergabeportalen, Stand 10.10.2026.
Vergleichbare Verfahren: Elektrische Maschinen und Geräte in Sachsen
Quelle: veröffentlichte Zuschlagsbekanntmachungen derselben CPV-Abteilung (31) im Bestand von Zuschlagsreif; Werte, die ein Portal nicht veröffentlicht, fehlen in der jeweiligen Zahl. Stand der Auswertung: 10.10.2026. Alle Zuschläge
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 17.01.2024, 01:00.